光學膜厚儀OMD-1000的運用范圍

典型應用領(lǐng)域

半導體制造業(yè)，光刻膠、氧化物、硅或其他半導體膜層的厚度測量。

生物醫(yī)學原件：聚合物/聚對二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層。

微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡                       

液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺；導電透明膜

由于是光學測量，在測量時候無須擔心破壞樣品，讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數(shù)，通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內(nèi)就可測量結(jié)果。

這是一種光譜膜厚監(jiān)測儀，可監(jiān)測在氣相沉積過程中用單色光在基板上產(chǎn)生的光量變化。它也用在我們自己的薄膜沉積設備中，并作為膜厚監(jiān)測設備完成，該設備具有氣相沉積零件制造商的專業(yè)知識。

全波長范圍

特征

產(chǎn)品規(guī)格